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勻膠機：SM 系列

SAWATEC手動勻膠機適用於沒有或有較小表面起伏結構的基板。拆裝操作簡便

的真空吸盤可提供標準樣式尺寸和客制樣式尺寸，極大地滿足各種應用需求。

所有市面上的光刻膠都可以均勻地塗布在最大直徑300毫米或9x9英吋的方形基

板上。

該勻膠機系列可提供便攜桌上式，內嵌式及移動櫃式三種類型。

 

熱板：HP 系列

SAWATEC為一般半導體光刻，微電機光刻以及類似的應用中的軟烤和硬烤工藝

提供不同類型的熱板。手動的熱板擁有堅實的部件，並且操作也簡單。由於熱板

實際運行溫度曲線和設定的溫度差別非常小，因此塗層的質量能夠得到很好的

保障。

該系列可用於最大300mm的晶圓或者12x12寸的基板，具備便攜桌上式，內嵌

式和移動櫃式三種類型。

 

噴膠機：iSPRAY 系列

SAWATEC iSPRAY-300噴膠機針對具有崎嶇表面特征和深層面結構的基板，

可以最大程度地確保塗膠均勻性，是手動噴膠和噴霧式顯影工藝的理想選擇，

特別適用於研發實驗室，和以試產和小量產為目的的微機電晶圓生產（例

如，3D微結構。

iSPRAY-300噴膠機設計可滿足直徑最大300毫米的圓形晶圓和12x12英吋的方形

基板。

 

顯影機：SMD 系列

SAWATEC SMD顯影機具有令人信服的高性能，低藥液消耗量，以及可靠的重複

性的優點，即使是在厚光刻膠層的應用裡面也是如此。

SMD系列設計可應用於清潔，顯影，蝕刻和去膠工藝，適用於最大直徑為300

毫米的晶圓和9x9英吋的方形基板。憑借操作簡便和易於清潔的優勢，該系列

設備是實驗室，研究開發，研究所和試產項目的絕佳選擇。

該系列設備可提供內嵌式和移動櫃式兩種類型。

 

旋轉沖洗乾燥機: SRD 系列

SRD系列的旋轉清洗乾燥機可被用於清洗放置於晶舟盒內的晶圓或基板，采

用的手段為化學濕法工藝和通過旋轉離心力和加熱氮氣實現的有效乾燥功

能。SAWATEC旋轉沖洗乾燥機採用了密封的不鏽鋼工藝處理艙，因具備優良的

工藝品質和高效生產力而令人信服。

SRD系列產品可以用於50mm到200mm的晶片，最多可以容納4個晶片盒，每個

盒子可以容納25個晶片。

該系列設備可提供櫃式，雙層或內嵌入濕法化學工藝台內三種類型。