超纯水是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，这种水中除了水分子(H20)外，几乎没有任何杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，一般不可直接饮用，对身体有害，会析出人体中很多离子。
     制作18x106Ω•cm以上的超纯水,是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，同时对终端出水使用的管路都需要有一定的要求，电阻率方可达18.25MΩ*cm

中国国家实验室用水规格GB6682-92标准,点击行业应用查询标准
    
制备超纯水设备的工艺大致分成以下几种：半导体超纯水设备,单晶硅超纯水设备,二极管超纯水设备

1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理设备方式，其基本工艺流程为：原水→砂碳过滤器→阳床→阴床→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水→砂碳过滤器→反渗透设备→原水箱→纯水泵→混床→后置精密过滤器→纯水箱→用水点
3、采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→砂碳过滤器→反渗透设备→原水箱→纯水泵→电去离子（EDI）→纯水箱→用水点
4、采用反渗透+混合床方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→砂碳过滤器→反渗透→中间水箱→中间水泵→混合床→微孔过滤器→用水点

以下为一经典18x106Ω•cm工艺流程及图片：

原水→原水泵→砂碳过滤器→加药装置→一级反渗透→中间水箱→PH调节装置→二级反渗透→二级水箱→输送泵→精密过滤器→TOC去除机→EDI→超纯水箱→输送泵→抛光混床→UV杀菌器→精密过滤器→用水点

      
常用行业：
集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水半导体超纯水设备,单晶硅超纯水设备,二极管超纯水设备



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