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超纯水设备 
  
 【电子超纯水工艺简介】
电子、半导体、液晶显示、光伏工业生产在制作过程中，往往需要使用极其纯净的超纯水处理设备。如果纯水水质达不到生产工艺用水的要求或者水质不稳定的话，会影响到后续工艺的处理效果和使用寿命。在光伏行业电子管生产中，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，在显像管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，如其配制纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色；含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、

闪动并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个晶体管需高纯水80kg。液晶显示器的屏面需有纯水清洗和用纯水配液，如纯水中有金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致报废、次品。在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属（K、Na等）会使绝缘膜耐压不良，重金属（Au、Ag、Cu等）会使PN结耐压降低，III族元素（B、Al、Ga等）会使N型半导体特性恶化，V族素（P、As、Sb等）会使P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷（约占灰分的20%~50%）会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏。水中的颗粒（包括细菌）如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。因此水的质量相当重要。采用反渗透加EDI的脱盐工艺，可以达到超纯水标准。单晶硅超纯水设备,二极管超纯水设备,半导体超纯水设备

【出水水质】
符合中国电子行业超纯水国家标准(GB/T11446.1-1997 )规定。
【应用】
微电子行业包括了电解电容器生产、电子管生产、显像管和阴极射线管生产、黑白显像管荧光屏生产、液晶显示器的生产、晶体管生产、集成电路生产、单晶硅、多晶硅生产、电子新材料生产等生产工艺，都需要工业超纯水。
【典型工艺】
原水箱→原水泵→多介质过滤器→活性碳过滤器→保安过滤器→一级反渗透设备→二级反渗透→纯水箱→纯水泵→TOC分解器→脱气膜→保安过滤器→EDI装置→纯水箱→纯水泵→抛光混床→膜过滤器→生产线用水点
先锋采用膜法工艺（反渗透→EDI→抛光混床），使超纯水制备从传统的阳离子交换器、脱碳、阴离子交换器、复合离子交换器等发生了一次革命，从此进入了一个无需再生化学品的时代。高科技膜法制备出来的工业纯水，其纯度可达到18MΩ·CM，且系统稳定，使用寿命长，且生产过程所产生的废水又可回用再生。

电去离子（EDI）系统的应用领域：

       1、电厂化学水处理
       2、电子、半导体、精密机械行业超纯水
       3、食品、饮料、饮用水的制备
       4、小型纯水站，团体饮用纯水
       5、精细化工、精尖学科用水
       6、其他行业所需的高纯水制备
       7、制药工业工艺用水
       8、海水、苦咸水的淡化

    经济效益及市场分析：

       EDI技术出现，更进一步降低了运行成本，无酸碱消耗，对环境不造成任何污染，使我们真正进入绿色水处理的时代，且能耗少，每产水3.8m3/h，耗电1kw。目前，市场上常用的多为国外产品，如Ebara、Orgamo、Nomura、Nippon Rensui和Elga。EDI技术被制药工业、微电子工业、发电工业和实验室所普遍接受。在表面清洗、表面涂装、电解工业和化工工业的应用也日趋广泛。单晶硅超纯水设备,二极管超纯水设备,半导体超纯水设备


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