稀土抛光粉

产品描述

【应用领域Applications】

（1）可适用于材质较软的光学元件的球面加工以及晶体等；

（2）可适用于平面高抛的终道抛光。

【产品特色Product Features】

（1）采用纯氧化铈稀土产品作为原料，经氟化焙烧制成的抛光粉，可用于软材质的光学元件，高精度要求的平面玻璃等抛光。

（2）平均粒度0.6-1.0微米，最大颗粒小于3 mm，可满足多种产品的精度要求。

（3）抛光速度快，颗粒耐磨性好；悬浮性好，且易清洗。

【化学指标Composition】

	TREO	La2O3	CeO2	Pr6O11	Nd2O3	Fe2O3	CaO	MgO	F	H2O
％	>94	<0.02	>99.9	<0.015	<0.001	<0.001	<0.05	<1	/	<0.5

【物理指标Physical Index】

Particle Size: D10>0.2 mm, D50: 0.6-1.0 mm, D100<3 mm; pH=7~8

【包装Packing】

标准包装：20 kg/桶，640 kg/托

Net Weight: 20 kg.