中国稀有金属材料有限公司生产不同种类用于平板显示器的溅射靶材，产品种类如下：Alumina doped Zinc Oxide sputtering targets (AZO),铝掺氧化锌

Tin doped indium Oxide sputtering target (ITO)锡掺氧化铟

Niobium Oxide sputtering target(Nb2O5, NbOx) 氧化铝

Magnesium fluoride sputtering target (MgF2)氟化镁

Molybdenum Niobium sputtering target (MoNb), Mo(90)Nb(10)wt%钼铌靶材

Antimony dopedTin Oxide sputtering target ,ATO(Sb2O3:SnO2)氧化锑掺氧化锡

Silicon sputtering target (Si)硅靶材

Silicon Aluminum sputtering target (SiAl)硅铝靶材

Titanium Oxide sputtering target (TiOx, TiO2, TiO )氧化钛

Niobium doped Titanium Oxide sputtering target (TiOxNb)铌掺氧化钛

最大尺寸: 圆片 18 英寸（457.2mm) 直径

长方形 :450mmx125mm or 420mmx200mm or 360mmx300mm or 330x330mm
相对密度: 99%最小
生产方式: 热压

产能: 约1000KGS/月