HMDS预处理真空烘箱

HMDS预处理真空烘箱
型号:PVD-090-HMDS
品牌:TATUNG
原产地:中国
类别:电子、电力 / 仪器、仪表 / 实验仪器装置
标签︰HMDS真空烘箱 , HMDS真空箱 , HMDS真空干燥箱
单价: ¥130000 / 台
最少订量:1 台

产品描述

HMDS预处理真空烘箱
一、HMDS 预处理系统的必要性:
在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺显得更为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。
二、产品特点:
 1)设备外壳采用医用级不锈钢316L不锈钢材质制作,内胆为不锈钢316L材料制成;采用C型不锈钢加热管,均匀分布在内胆外壁,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置;采用钢化、防弹双层玻璃观察窗,便于观察工作室内物品实验情况。
2)箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内保持高真空度。
3) 采用微电脑PID控制,系统具有自动控温,定时,超温报警等,采用LCD液晶显示,触摸式按钮,简单易用,性能稳定.
4)智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间。
5)HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,使真空箱密封性能极好,确保HMDS气体无外漏顾虑。
6)整个系统采用优质医用级316L不锈钢材料制作,无发尘材料,适用百级光刻间净化环境。
三、产品型号及参数:
型号:PVD-090-HMDS
容积:90L
控温范围:R.T.+10~250℃
温度分辨率:0.1℃
控温精度:±0.5℃
隔板数量:2PCS
真空度:<133Pa
真空泵:DM4
电源:AC220/50HZ
额定功率:3.0KW
内胆尺寸mm:宽450*深450*高450
外形尺寸mm:宽650*深640*高910
木箱包装mm:宽840*深750*高1100
连接管:316不锈钢波纹管,将真空泵与真空箱完全密封无缝连接
四、PVD-090-HMDS系列预处理系统的原理:
 PVD-090-HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。

五、PVD-090-HMDS系列预处理系统的一般工作流程:
首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真空度达到某一高真空度后,开始充入氮气,充到某低真空度后,再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表面生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。
六、尾气排放:
多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
七、产品操作控制系统平台配置:
1.采用DM4直联旋片式真空泵
2.采用AISET温控器控制温度,日本三菱可编程触摸屏操作模块.
3.固态继电器

以下三款型号HMDS真空烘箱参数
PVD-020-HMDS真空干燥箱技术参数:
电源电压:AC220V/50Hz
输入功率:1500W
控温范围:室温+10℃-250℃
温度分辨率:0.1℃
温度波动度:±0.5℃
真空度极限:<133Pa
容积:20L
内室尺寸(mm):300*300*275
外形尺寸(mm):465*465*725
载物托架:1块
时间单位:分钟

PVD-090-HMDS真空干燥箱技术参数:
电源电压:AC220V/50Hz
输入功率:3000W
控温范围:室温+10℃-250℃
温度分辨率:0.1℃
温度波动度:±0.5℃
真空度极限:<133Pa
容积:90L
内室尺寸(mm):450*450*450
外形尺寸(mm):650*640*910
载物托架:2块
时间单位:分钟

PVD-210-HMDS真空干燥箱技术参数:
电源电压:AC380V/50Hz
输入功率:4000W
控温范围:室温+10℃-250℃
温度分辨率:0.1℃
温度波动度:±0.5℃
真空度极限:<133Pa
容积:210L
内室尺寸(mm):560*640*600
外形尺寸(mm):720*820*1050
载物托架:3块
时间单位:分钟

 

HMDS预处理真空烘箱 1HMDS预处理真空烘箱 2

会员信息

上海实贝仪器设备厂
国家/地区︰上海市奉贤区
经营性质︰生产商
联系电话︰18918265843
联系人︰任俊萍 (经理)
最后上线︰2016/07/21