PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。PVD纳米涂层通常称谓：镀钛,真空镀钛，镀铬，镀钛加工，PVD镀钛，纳米镀钛，纳米涂层，真空镀钛加工，真空涂层，表面处理等.

真空镀钛涂层特点：增寿、增硬、增值,并以其硬高度、高耐磨、强抗腐蚀性、抗高温、抗黏着性等使用性能广泛应用于模具工业中。

多元复合涂层种类：氮化钛(TiN),氮化铬(CrN)氮铝钛(TiAlN),高铝钛(AlTiN)氮碳化钛(TiCN),氮碳化铬(CrCN)，氮化钛硅（TiSiN）氮化钛铝硅（TiAlSiN），氮化钛铝铬(TiAlCrN)等各种超硬膜层，其涂层厚度可达到0.5～5um，故而您不用担心会给尺寸带来麻烦，并以新工艺使产品具有良好的润滑、散热（干式），使工件寿命可增加10～50倍，可提高600％工作效力，从而降低生产成本。