日本Shimadzu岛津氮化硅基板真空压力烧结炉PHSgr60/60/140适用于Si₃N₄氮化硅材料从脱气到加压烧结的连续处理。新能源汽车、高铁、城市轨道交通、5G 基站等设备上大功率控制模块的散热基板 及汽车、风电等设备上高精度、高转速陶瓷轴承球的烧结处理。

用途：Si₃N₄氮化硅基板、Si₃N₄氮化硅轴承球、 Si₃N₄氮化硅结构件

日本岛津氮化硅基板真空加压烧结炉PHSgr60/60/140技术规格

有效尺寸(mm)：600*600*1400

处理量(KG)：720

额定温度(℃)：2200

真空度(Pa)：7x10-1

最高压力：0.9MPaG

加热电力：N2,Ar

岛津作为日本真空炉专业生产代表厂家，在硬质合金，合金陶瓷，金属注射成形的生产和研究开发市场占有大部分的市场份额。经过数十年培育出的技术和成熟的生产工艺，系列化生产的真空炉，可以为用户提供高质量的产品和服务。在中国，韩国等海外市场，也已拥有众多的销售业绩，并得到客户的青睐。

日本Shimadzu岛津氮化硅基板真空压力烧结炉PHSgr60/60/140由于1MPa的低压烧结，可以在一定程度上提高产品的抗弯强度和明显减少偏差，因此部分替代6MPa的低压炉使用，从而降低生产成本。