紫外正型厚膜光刻胶

紫外正型厚膜光刻胶
型号：GP-28
品牌：光谱
原产地：中国
类别：电子、电力 / 其它电力、电子
标签︰紫外 , 正型 , 厚膜光刻胶
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产品描述

本品主要用于MEMS微机械、微光学器件和大功率晶闸管、可控硅等半导体器件的制作，具有高感度，工艺宽容度大，抗刻蚀性好等显著特点，尤其适合强曝光、速显影工艺。

                                                          超高感度
                                                        高抗刻蚀性能
                                                        工艺宽容度大  
                                                         耐热性好

品种规格　
 
GP-28 溶剂PGMEA
（丙二醇甲醚醋酸酯）		 100~ 450mPa.S
 

推荐工艺　
 

匀胶(Coating)：旋转涂布(spin) t=23℃, 湿度(humidity):<50%

前烘(Prebake)：90℃×30min,对流烘箱

曝光(Exposure)：90~200mJ/cm2
显影(Developing)：2.38%TMAH 23℃×60~150sec,
后烘(Postbake)：120℃×20min, 对流烘箱
紫外正型厚膜光刻胶 1

会员信息

成都光谱光电技术有限公司
国家/地区︰四川省成都市
经营性质︰生产商
联系电话︰13330963457
联系人︰徐文曦 (经理)
最后上线︰2012/02/24

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