MYCRO韩国制造的紫外曝光系统MDA系列，适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光，是三星，LG等诸多韩国半导体制造公司的设备供应商。

应用领域

   电子封装（晶片凸点和晶片级CSP）

   光电设备（LEDs，激光二极管，波导阵列）

   探测器  （CCD，近/远 红外，实时X射线）     

   MEMS 和MOEMS 设备显示器  （LCDs，聚合体LCD，OLED）

适用感光层   适用与各种类型的光刻胶及Dry-film, BCB, Polyimide, SU-8  适用与G, H, I线及深紫外曝光

适用基材半导体材料

  Si, SiGe, SOI, SOS, GaAs, InP, InSb, CZT, MCT，LiNbO3, 石英, 玻璃,

  Flex, Rigid substrates (FR-4, BT-epoxy), Kapton, Metal

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