专业的PLD脉冲激光沉积系统（基片尺寸Φ2inch, 4inch, 6inch, 8inch、or flexible tape）供应商，凭借多年的娴熟的经验、雄厚的研发实力和生产能力，为不同客户提供专业脉冲沉积系统方案和优质的技术服务；并且已经被众多著名高校、研究所和R&D企业所采用。

• 技术参数

基片尺寸：Φ2inch, 4inch, 6inch, 8inch、or flexible tape material applied；

靶尺寸：Size Φ1”inch to Φ８inch；

靶数量：up to 6pcs；

基片加热： up to 900℃；

真空度：5x10-5 Pa,(On request,6x10-6 Pa or less) ；
 

主要特点:

靶Swing功能；

激光束扫描功能；

配备准分子激光器；

可选功能：Load Lock Chamber
                    RHEED分析功能
                    多功能系统：Comibination with Sputter gun,Electron beam、IBAD

同时也为客户提供同类设备：

大面积电子束沉积系统：沉积区域70mmx200mm，适合金属、绝缘材料和介电材料等沉积；

大面积溅射系统：沉积区域Max 75mm(W) x 310mm(L)，适合金属、半导体、绝缘材料和介电材料等沉积；

小型化溅射台：φ１inch～φ２inch基片，价格优惠，特别适合高校研究使用；