PECVD等离子增强化学气相沉积 (中国北京市生产商) - 电子电气产品制造设备

PECVD等离子增强化学气相沉积

可沉积薄膜：氧化物薄膜、氮化物薄膜，氮氧化物薄膜、无定形硅薄膜和碳化硅薄膜等等，根据电极的配置，可用于单基片工艺，也可配备承片盘，处理基片(3”~12”尺寸)，或者多尺寸批处理基片(4x3”，3x4”，7x2”)。产品型号，有研发型，小规模生产型适用于不同的客户要求。