京泓公司设计的磁控溅射镀膜机可采用立式单开门或双开门镀膜机，可配置工件小车，装夹方便快捷，保养维修简单。蒸发，磁控贱射两用的设计，广泛适用于不同的工艺要求，采用先进的磁控靶结构，靶材利用效率高，镀膜均匀性好。通过更换不同的靶材料：（例如：钛、铜、铝、不锈钢、）从而满足不同工件的镀膜工艺要求，工件架采用公自转结构，传动灵活可靠。真空机组配置先进、合理、达到抽速快、效率高的目的。电控系统采用PLC计算机可编过程控制。设备适用于：塑料、玻璃、树脂、五金，金属材料的表面镀制。
　　
　　用于沉积TiN／ TiC／ TiAlN／ TiO／ SiO／ SiO2／ C／ Ti／ Cr／ Al／ Cu／ Ni等。