XplorAA超脉冲背景校正方式每秒样品测定次数达200次（大多数校正方式为50次/秒），是目前为止最快的背景校正技术。测量总吸光值与背景值之间的延迟时间只有1毫秒，使背景校正误差大大降低，内插法背景测量，使背景测量精度得到进一步改善。这种背景校正系统具有最强的扣背景能力，可校正到2.5Abs吸光度。

 

GBC保证XplorAA灵敏度：5ppm的铜溶液吸光值>0.80Abs，同时标准误RSD<0.45％。这个灵敏度是为最好的AAS而制定的，而现在在讲求经济XplorAA上实现了。

 

XplorAA狭缝宽度为20个级别可调，高度20个级别可调；而我们的竞争对手通常仅仅有4个级别的狭缝宽度和2个高度可调；在他们的入门级别的机型上，甚至只有2个狭缝宽度可调，而狭缝的高度使完全固定的。由此在同等价格下面，XplorAA提供了更强的机动性和弹性。

XplorAA 原子吸收分光光度计技术规格

 

光学系统：不对称双光束（2：1）。全反射、全封闭光学系统

EBERT-FASTIE单色器，焦距：333mm；光栅： 1800条/光栅刻线、250nm和490nm双闪耀波长。

自动选择波长，自动对峰位、自动波长扫描。

光 源：一灯测试，一灯预热。

读数次数：200次/秒，超脉冲背景校正，延迟时间为1ms，误差<0.001Abs，补读指可达2.5Abs

带宽：0.1-2.0nm（20档）连续可调；狭缝高度：20档程控可变

雾化室：耐腐蚀聚丙烯、预混式雾化器；燃烧头：全钛合金；雾化器：可调式Ir/Pt合金

联锁安全保护：10项保护功能，内锁安全系统监控空气、乙炔或氧化二氮压力、燃烧头、氘灯、液封、雾化器、释压塞、气流量及主电源等多达十次安全连锁，由屏幕显示，提高安全性及操作方便性。

性能保证：5PPMCu Abs>0.8， 同时RSD<0.45％，典型吸光值可达1.0Abs以上

石墨炉（选购）：内置数码摄像电子进样观测系统，不限部升温；动态功率反馈温度控制系统；拥有多次注射功能，可达50次，实现预富集

氢化物发生器（选购）：全自动连续式，保证精度<1%

其它可选附件：石英原子捕捉器、高盐分析仪、自动火焰进样器

我们已经推出一款新的原子吸收光谱仪（AAS），它将非常适合预算有限的的客人，这就是我们的新成员 - - XplorAA。

 

很明显，Xplor来自Explorer（探测者），XplorAA是我们特别为大学、医院、工厂、以及矿产等工作环境严峻的领域而设计的，它没有时髦的外观，但却拥有最实际的--品质和性能。

 

在同一实验中，GBC保证XplorAA具有高灵敏度的同时保证其结果再现性。

 

XplorAA同样使用了全封闭式的光学系统。在我们的竞争对手中，没有一个是将全封闭光学系统配置到他们的入门级别的原子吸收光谱仪上，他们使用廉价的光学系统来降低成本；甚至有些竞争对手的在他们的顶级机型上都没有使用全封闭式的光学系统。

 

应用在Avanta系列机器上的高级配置同样应用在了XplorAA，这个使我们的机器上的空心阴极灯比竞争对手拥有更长的使用寿命。

Avanta PM先进的性能包括：

 

革新性的专利－不对称调制技术，样品与参比光束时间比采用2:1设计，，减小了40%的噪音。

超脉冲背景校正方式每秒样品测定次数达200次（大多数校正方式为50次/秒），是目前为止最快的背景校正技术。测量总吸光值与背景值之间的延迟时间只有1毫秒，使背景校正误差大大降低，内插法背景测量，使背景测量精度得到进一步改善。这种背景校正系统具有最强的扣背景能力，可校正到2.5Abs吸光度。先进的背景校正技术－唯一真正可以应用于石墨炉AAS的氘灯系统

GBC 从不使用透镜，Avanta PM光学系统全部元件均有石英涂层，全反射镜片确保准确聚焦，在全波长范围内保持高能量的光通量，降低了能量的损失，全封闭光学系统防尘、防腐蚀性气体

内置触摸屏P4计算机（256M RAM,40GB硬盘），Windows XP操作系统，21世纪操作软件

出众的光学系统

Ebert-Fastie型单色器，，提高了原子吸收所必需的光源效率及稳定性。

超宽测定波长范围为175～ 900nm，长焦距333mm,光栅刻线1800线/mm。

自动选择波长，自动对峰位。自动波长扫描用于火焰发射法或辅助故障检修。

计算机控制光谱带宽0.1～2.0nm（20档）连续可调，狭缝高度0.1～2.0nm（20档）连续可调，从而对灵敏度和分辨率可作出最佳的优化，并可降低高度以便于石墨炉分析时提高灵敏度和降低干扰。

世界上领先的火焰原子化系统

 

Avanta PM耐腐蚀聚丙烯雾化室采用预混式设计，高灵敏度可调雾化器带Pt—Ir毛细管，钛文氏管，可调样品提升率。

高效率的全TI燃烧头不仅防止酸的腐蚀，且可防止积碳。快速转换架便于快速石墨炉分析。