日本NTT ADS 抛光片

本产品由日本NTT研发之二氧化硅ADS抛光片，将0.02微米之颗粒均匀涂布于厚度为3mil精密级之聚酯薄膜的基材上，作为光纤研磨终端抛光之用。

产品规格：5”（127mm）Disc

使用基材：厚度为3mil（75um）之聚酯薄膜

矿砂颗粒：0.02微米（um）之二氧化硅颗粒

产品磨料选用具有良好形貌的微米或纳米级氧化铈微粉，具有抛光效率高，表面状态好等优点； •黏合体系采用新型高分子材料，具有良好的耐水性和耐醇性； •基材使用高强度薄膜，具有良好的耐热和抗拉性能； •专有的配方工艺确保磨料颗粒分散均匀； •产品质量稳定，批次之间差异小； •涂层具有较好的强度和柔韧性，能达到理想的曲面抛光效果。 

研磨工艺：

研磨前应先将抛光片保持充分湿润，并且保持研磨环境之清洁，在每盘抛光完成后，确实地清洗抛光片，可保持抛光片处于良好的抛光效能，使延长抛光片使用寿命，达到更佳的应用效果。

本产品主要用于光纤连接器的最终抛光，也可用于精密光学器件的超精密加工