离子束刻蚀

型号：	4Wave
品牌：	4Wave
原产地：	美国
类别：	电子、电力 / 电子元器件 / 集成电路
标签︰	离子束 , 薄膜沉积 , 薄膜刻蚀
单价：	-
最少订量：	1 件

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产品描述

4Wave成立于2000年，主要人员及技术均源于美国著名的离子束技术公司Commonwealth Scientific。Commonwealth于2000年被Veeco收购后，其主要的技术及管理高层离开Commonwealth后，重新组建了4Wave公司。4Wave全心致力于研究与应用离子束技术，主要产品为基于离子束技术的薄膜沉积及刻蚀系统，客户群覆盖大学、国防军工、先进技术公司等领域。
4Wave领先技术
1. 低能高束流离子源
2. 偏压靶离子束沉积
3. 低能量的精准离子束刻蚀

离子束刻蚀
1. 真空锁结构可选
2. 单片或行星式装置
3. 射频ICP离子源
4. 刻蚀终点监测 - 二次离子质谱仪
5. 基于PC+PLC的自动化控制系统架构

离子束沉积
1. 真空锁结构可选
2. 多靶自动选择
3. 射频ICP离子源
4. 辅助沉积/表面预清洗离子源
5. 晶振和光学膜厚测量
6. 偏压靶技术可选