型号: | DS-2000/1.0 |
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品牌: | - |
原产地: | 中国 |
类别: | 电子、电力 / 其它电力、电子 |
标签︰ | 无掩膜光刻 , 无掩模光刻 , 光刻机 |
单价: |
¥580000
/ 台
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最少订量: | 1 台 |
DS-2000/1.0型无掩膜光刻机
无掩膜光刻机技术性能介绍
型号:DS-2000/14
1.技术特征
采用DMD作为数字掩模,像素1024´768
采用14倍缩小投影光刻物镜成像,一次曝光面积约1mm×0.75
采用专利技术——积木错位蝇眼透镜实现均明。
采用进口精密光栅、进口电机、进口导轨、进口丝杠实现精确工件定位和曝光拼接,可适应100mm´100mm基片。
采用CCD检焦系统实现整场调平、自动逐场调焦或自动选场调焦曝光。
具备对准功能
2.技术参数
光源:350W球形汞灯(曝光谱线: i线);
照明均匀性:±2%;
物镜倍率:14倍
曝光场面积:1mm×0.75mm
光刻分辨力:1 μm
工件台运动范围:X:100mm、 Y:100mm;
工件台运动定位精度:±0.65μm;
调焦台运动灵敏度:1μm;
对准精度:±2μm;
调焦台运动行程:6mm
检焦:CCD检测,检测精度2微米
转动台行程:±6°以上
基片尺寸 外径:Ф1mm—Ф100mm,厚度:0.1mm--5mm
3.外形尺寸:840mm(长)450mm(宽) 830mm(高)
鑫有研电子科技(北京)有限公司 | |
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国家/地区︰ | 北京市房山区 |
经营性质︰ | 生产商 |
联系电话︰ | 15201545018 |
联系人︰ | 曹经理 (市场部经理) |
最后上线︰ | 2015/02/07 |