zfcz真空磁控濺射+蒸發鍍膜機
      性能
      真空室結構立式雙開門、立式單門、臥式單開門、後置真空獲得系統
      電源類型電阻蒸發電源、離子轟擊電源、燈絲電源、脈衝偏壓電源、直流磁控電源、中頻磁控電源
      鍍膜室尺寸Ф900×H1100mmФ1000×H1200mmФ1200×H1400mmФ1400×H1600mmФ1600×H1800mmФ1800×H2000mm
      鍍膜室材質優質不鏽鋼材質
      極限真空8.0×10-4Pa
      抽氣時間
      (空載）
      從大氣抽至6.5.0×10-2Pa≤8分鐘
      真空獲得系統擴散泵或分子泵+羅茨泵+機械泵+維持泵（型號可根據客戶的需求進行配置）
      鍍膜方式蒸發鍍膜+磁控濺射鍍膜
      鍍膜種類金屬膜、半透明膜、不導電膜、電磁屏蔽膜、介質膜等
      磁控靶類型矩形磁控靶、圓柱形磁控靶、孿生磁控對靶
      磁控偏壓電源功率及靶數量根據不同鍍膜工藝和客戶的需求進行選配
      工件迴轉最大有限直徑6軸 Ф260mm6軸 Ф280mm
      8軸 Ф260mm6軸 Ф360mm
      8軸 Ф280mm6軸 Ф420mm
      8軸 Ф350mm6軸 Ф460mm
      8軸 Ф380mm6軸 Ф560mm
      8軸 Ф460mm
      蒸發電極標配2對
      蒸發功率35KW
      整機總功率85KW
      工藝氣體2路或3路工藝氣體流量控制及顯示系統 選配自動加氣系統
      冷卻方式水循環冷卻方式，另需配冷卻水塔或工業冷水機。（客戶提供）
      工件轉架
      轉動方式行星式公自轉、變頻調速（可控可調）
      控制方式手動/自動一體化方式、觸摸屏操作、PLC或計算機控制
      報警及保護對缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警，並執行相應保護措施。
      設備佔地面積W3m×L3mW3m×L3mW3.5m×L4mW5m×L5mW6m×L6mW6m×L8m
      其他技術參數水壓≥0.2MPa、水溫≤25℃、氣壓0.5-0.8MPa
      備 注鍍膜設備的具體配置可根據客戶的鍍膜產品工藝要求進行設計。