本公司的磁控濺射鍍設備有以下几大特點：1） 膜厚可控性和重複性好，能夠可靠的鍍制欲定厚度的薄膜，並且，濺射鍍膜可以在較大的表面上獲得厚度均勻的膜層；2）薄膜與基片的附着力強，並且部分高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象，在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴散層；3）可以制備特殊材料的薄膜，可以制膜層可以使用不同的材料同時濺射制備混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿金膜；4）膜層純度高，濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。

    本公司擁有最完善的售后服務體系，使用本公司設備可免費提供技術工、操作工培訓和最先進的生產工藝。