將磁控濺射技術和真空蒸發技術結合在同一鍍膜設備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺出並部分離化沉積在基材上成膜，同時又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融並讓其汽化再沉積在基材上成膜。增加了設備的用途和靈活性。

磁控濺射/蒸發復合型真空鍍膜機配置了等離子體處理裝置，高效磁控濺射陰極和電阻蒸發裝置等，設備沉積速率快，鍍層附着力好，鍍層細膩緻密，表面光潔度高，且均勻性一致性良好；該機實現鍍膜工藝全自動化控制，裝載量大，工作可靠，合格率高，生產成本低，綠色環保。該設備主要廣氾應用於電腦殼、手機殼、家用電器等行業，可鍍制金屬膜、合金膜、復合膜層、透明（半透明）膜、不導電膜、電磁屏蔽膜等。

 

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