中國稀有金屬材料有限公司生產不同種類用於平板顯示器的濺射靶材，產品種類如下：Alumina doped Zinc Oxide sputtering targets (AZO),鋁摻氧化鋅

Tin doped indium Oxide sputtering target (ITO)錫摻氧化銦

Niobium Oxide sputtering target(Nb2O5, NbOx) 氧化鋁

Magnesium fluoride sputtering target (MgF2)氟化鎂

Molybdenum Niobium sputtering target (MoNb), Mo(90)Nb(10)wt%鉬鈮靶材

Antimony dopedTin Oxide sputtering target ,ATO(Sb2O3:SnO2)氧化銻摻氧化錫

Silicon sputtering target (Si)硅靶材

Silicon Aluminum sputtering target (SiAl)硅鋁靶材

Titanium Oxide sputtering target (TiOx, TiO2, TiO )氧化鈦

Niobium doped Titanium Oxide sputtering target (TiOxNb)鈮摻氧化鈦

最大尺寸: 圓片 18 英吋（457.2mm) 直徑

長方形 :450mmx125mm or 420mmx200mm or 360mmx300mm or 330x330mm
相對密度: 99%最小
生產方式: 熱壓

產能: 約1000KGS/月