1、設備名稱：ATON 1600 真空磁控濺射鍍膜線

2、產地：美國應用材料公司

3、功能：該系統專門針對光伏太陽能所需要的SIN層鍍膜設計，分為7個真空室：進料室、緩衝室、傳輸過渡室、濺射室1+濺射室2、傳輸過渡室、緩衝室、出料室。系統整體設計嚴格，採用分子泵高真空機組，配備高濺射效率的平面靶或旋轉靶，採用直流濺射。

設備也可以應用在ITO膜、SIO2膜、金屬膜，應用於如太陽能、LOW-E、LED等行業。

4、簡要介紹：

4.1、主體結構：7組真空箱體，連續式

4.2、真空泵組：分子泵、高真空系統

4.3、濺射部分：4個陰極濺射

4.4、工件尺寸：12600*800最大尺寸

4.5、配套設施：外圍所需配套齊備

4.6、控制方式：全自動過程及工藝控制