該區域提純爐主要由：高溫梯度爐、真空爐管、真空法蘭、電子真空計、質量流量計、分子泵組、直線導軌、速度控制器等重要部件構成。廣氾用於半導體鍺、硅提純還可以用於金屬、金屬間化合物提純。

主要技術參數：

工作溫度：1200℃

爐管長度：1200mm

爐管直徑：50mmm

爐管厚度：5mm

密封方式：不鏽鋼真空法蘭

真空度：1.0X10E-3Pa

流量計類型：質量流量計

氣體流量：100SCCM、200SCCM、500SCCM

載料舟長度：200mm

移動速度：160mm/60min（可根據實際要求調節）

溫度控制：50段可編程控制

控制系統：全電腦程序控制