濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，較之較早點的蒸發鍍膜方式，其很多方面的優勢相當明顯。作為一項
已經發展的較為成熟的技術，磁控濺射已經被應用於許多領域。根據用戶的不同需求，可按照要求定做各種規格的金屬、合金、陶瓷等離子濺射用靶材。