RC-2010中磷酸性全光亮化學鍍
1.工藝特點：
循環壽命長，可達8-10個循環（Metal Turn Over），[循環含義為每升鍍液將全部鎳鍍出再補加到開缸時的鎳含量稱為一個循環，一個循環最少可沉積鍍層900dm2·μm]；
最高鍍速可達20-22μm/h；
深鍍能力強、均鍍能力強，完全達到“仿型效果”；
硬度高、耐腐蝕能力強； 
鍍層孔隙率低，10μm無孔隙；
耐磨性好，優于電鍍鉻；
可焊性好,能夠被焊料所潤濕;
電磁屏蔽性能好,可用於電子元件及計算機硬盤；
鍍層為非晶態，非磁性Ni-P合金
2.鍍層特點：
磷含量：6-9%(wt)；                       電阻率：60-75μΩ·cm；
密度：7.6-7.9g/cm3；                       熔點：860-880℃；
硬度：鍍態:Hv 500-550(45-48RCH)；
結合力：有鋼上400MPa遠高于電鍍；
熱處理后:Hv1000；                 內應力：鋼上內應力低於7MPa
3．配製溶液：
開缸時，在槽中加入所配溶液1/2的水。
加入加入5%的A和15%的B，機械攪拌均勻，配備過濾機過濾。
加入純水至所需近似體積。
加溫至88℃。
用氨水或硫酸調節pH值至4.6－4.8
補水至刻度線即可按工藝要求施鍍。

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