微波真空爐

1. 適用於各種氣氛條件下的合成、焙燒、熱處理、燒結等工藝研究。
2. 快速升溫，大幅度提高實驗效率，採用預抽真空方式置換氣體，可大幅度節省置換氣體時間。
3. 可進行高真空條件下的合成、焙燒、熱處理、燒結等工藝研究。

技術特點

1. 加熱速度快、溫度均勻、無熱慣性；
2. 採用特製工業級微波源，確保設備長時間連續穩定運行，微波輸出功率無級可調，實現工藝曲線精確控制；
3. 配備嵌入式微機控制系統，實時溫度、功率顯示並隨時儲存記錄，加熱過程動態工藝曲線監控並可隨時調整工藝參數，具備手動、自動、恆溫三種操作模式，並可自由切換；
4. 各種規格、型號的專用坩堝和保溫結構供選擇，對物料無污染；
5. 可配置紅外測溫與熱電偶同時測溫，觀察物料吸波性能變化及溫度均勻性；
6. 設置觀察窗，可看到物料加熱情況或反應變化；
7. 配備高真空機組和多路氣氛控制管路，進、出氣體通道單獨設計，可滿足不同工藝的氣氛要求；
8. 可加工處理各種微波特性不同的物料，通用性好；
9. 安全可靠的微波屏蔽設計，多重防洩漏保護。