型號: | A02-165B |
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品牌: | greenkem |
原產地: | 中國 |
類別: | 化工 / 催化劑和化學助劑 / 表面處理劑 |
標籤︰ | 鍍鎳添加劑 , 鍍鎳光亮劑 , 電鍍助劑 |
單價: |
¥60
/ kg
|
最少訂量: | 25 kg |
A02-165系列滾鍍鎳添加劑使用說明書
特性及用途
●鍍液成份簡單,易維護;
●鍍層青亮潔白;
●出光快,物理性能優越,應力低,延展性良好;
●有良好的覆蓋能力、均鍍能力和雜質容忍能力。
劑型及作用
產品代號 |
名稱 |
作用 |
A02-165A |
滾鎳主光劑 |
控制鍍層的光亮度和填平度。主光劑過少鍍層的光亮和填平會較差;過多則會導致低電流密度區發黑,嚴重時低電流密度區會漏鍍 |
A02-165B |
滾鎳輔助劑 |
輔助主光劑出光和填平,可使鍍層厚度及光亮度更均勻,提高雜質的容忍度。過少會影響鍍層的光亮性並降低雜質的容忍度;過多會導致低電流密度區發黑,並導致高電流密度區光亮性下降 |
A02-165C |
滾鎳柔軟劑 |
減少鍍層內應力,增加鍍層的柔韌性和覆蓋能力。柔軟劑過少,低區金屬覆蓋能力較差,低電流密度區可能出現漏鍍,並可能導致鍍層的脆性過大出現起泡、脫皮等問題;過多會導致鍍層的含硫量過大,高溫鍍層容易發黃,並且滾鍍過程中容易出現鍍層分層現象 |
A02-165D |
滾鎳濕潤劑 |
降低鍍液表面張力,防止鍍層產生針孔 |
溶液組成
項目 |
參數範圍 |
建議開缸量 |
六水硫酸鎳(NiSO4·6H2O) |
220~280 g/L |
270 g/L |
六水氯化鎳(NiCl2·6H2O) |
40~60 g/L |
50 g/L |
硼酸(H3BO3) |
30~50 g/L |
45 g/L |
A02-165A主光劑 |
0.3~0.7 ml/L |
0.5 ml/L |
A02-165B輔助劑 |
3~5 ml/L |
4 ml/L |
A02-165C柔軟劑 |
8~12 ml/L |
10 ml/L |
A02-165D濕潤劑 |
0.8~1.5 ml/L |
1 ml/L |
溫度 |
50~60℃(<65℃) |
55℃ |
pH |
4.0~4.8 |
4.5 |
陽極電流密度 |
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少於2.5 A/dm2 |
陰極電流密度 |
0.2~1.0 A/dm2 |
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電壓 |
8~15 V |
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滾桶速度 |
3~9轉/分鐘 |
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電流 |
直流電,波紋率少於5% |
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沉積速度(55℃) |
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0.5A/dm2時約6微米/小時 |
溶液補加管理
產品代號 |
消耗量(千安培小時) |
補加控制 |
A02-165A |
70~150 ml |
主光劑由赫爾槽實驗及工件外觀來加以控制,平時可根據消耗量補加。但需要定時查看工件的光亮度,及時做出調整。 |
A02-165B |
30~50 ml |
根據消耗量補加。 |
A02-165C |
120~80 ml |
根據消耗量補加。 |
A02-165D |
10~20 ml |
根據消耗量補加。濕潤劑能維持鍍液表面張力在40~46達因/釐米,有條件可定期測試鍍液表面張力調整濕潤劑用量。 |
鍍液配製
1. 注入三分之二的純水于代用缸(或預備槽)中,加熱至66℃。
2. 加入所需的硫酸鎳及氯化鎳,攪拌使其完全溶解。
3. 加入碳酸鎳或4%氫氧化鈉溶液,調整pH值至5.2。
4. 加入2.5 ml/L雙氧水,加入前先以水稀釋,攪拌打氣2小時。
5. 加入活性碳2~4 g/L,攪拌數小時,然後靜置整晚。
6. 用過濾機把鍍液抽濾到清洗乾淨的電鍍槽內。
7. 將過濾機清洗乾淨,然後再填裝活性碳粒(0.2 g/L)及助濾粉(0.2 g/L)。
8. 加入所需的硼酸,硼酸加入前先用60~70℃熱水預溶好,再倒入槽內。
9. 補加純水到工作液位,檢查pH值,調整pH值至4.0~4.8。
10. 用波浪狀的假陰極以低電流密度(0.1 - 0.4 A/dm2)連續電解6小時以上,或直至低位顏色由暗黑變淺灰色。
11. 檢查pH值,調整至標準範圍。
12. 按建議開缸量添加鎳添加劑后,便可以開始試鍍。
設備相關
1. 鍍槽溫度控制可用蒸汽或石英電熱棒加熱。
2. 鍍液需要連續循環過濾。過濾機在1小時內能將鍍液過濾5至8次。過濾機應每40工作小時,放入活性碳0.6 g/L。
基礎原料功能
1. 硫酸鎳:硫酸鎳為鎳離子的主要來源,它的含量高低影響着陰極電流效率的高低和鍍層的性能。含量低時分散能力好,結晶細緻,但沉積速度減慢,陰陽極電流效率低;含量高時,電流高區沉積快,但分散能力差,而且消耗量也較大。
2. 氯化鎳:氯化鎳提供氯離子來幫助陽極溶解,減少陽極極化現象,增加鍍液的導電性,並使陰極有較高的電流密度,同時也供應鎳離子。含量太低會使陽極鈍化,從而使鍍層發霧,光亮度下降;含量太高陽極會出現異常溶解,溶液中泥渣增多,繼而使鍍層產生毛刺。
3. 硼酸:硼酸有緩衝作用,可穩定陰極的pH值。硼酸過低,鍍層會有針孔,容易變脆;硼酸過高,在溫度低時易結晶析出,造成鍍層粗糙、毛刺和原材料的浪費。
鍍液分析方法
總鎳(Ni2+)含量分析:
1) 用移液管移取鍍液1 ml于250ml錐形瓶中。
2) 加入100 ml純水。
3) 加入10 ml 1:1氨水。
4) 加0.2克紫脲酸胺指示劑並搖勻。
5) 用0.1 mol/L EDTA溶液滴定,溶液顏色由棕色變成紫色為終點。
總鎳含量(克/升)= V所用0.1mol/L EDTA的毫升數×5.871
六水氯化鎳含量分析:
1) 用移液管移取鍍液1 ml于250ml錐形瓶中。
2) 加入100 ml純水。
3) 滴加4滴4%鉻酸鉀指示劑(K2CrO4)。
4) 用0.1 mol/L AgNO3溶液滴定,溶液中產生的白色沉澱剛轉為磚紅色沉澱為終點。
氯化鎳(g/L)= V所用0.1N AgNO3的毫升數×11.9
硫酸鎳(g/L)= [總鎳含量(g/L)- 0.25×氯化鎳(g/L)]×4.46
硼酸含量分析:
1) 用移液管移取鍍液1 ml于250ml錐形瓶中。
2) 加入40 ml 10 %甘露醇溶液。
3) 滴加1-2滴溴甲酚紫指示劑。
4) 用0.1 mol/L NaOH溶液滴定,溶液顏色由黃色變藍綠色為終點。
硼酸(克/升)= V所用0.1N NaOH的毫升數×6.18
鍍液維護和常見故障分析處理
鍍鎳溶液對某些雜質,如銅、鋅、鉛、鉻等很敏感,生產過程儘量避免帶入。日常維護注意下面幾點:
1) 前處理后要清洗乾淨才能進入鎳槽電鍍,避免有機雜質的污染。
2) 添加劑的補充遵守少量多次的原則。
3) 維持鍍液的清潔,絕不能有懸浮雜質,應當定期清理鍍液表面的油污和槽底的沉積雜質。
4) 定期分析鎳離子、氯離子、硼酸含量、pH值,保持在規定的範圍之內。
5) 鍍液需要連續不斷的過濾,每小時能將鍍液過濾5~8次,每40小時補充活性炭0.6 g/L,定期清洗過濾機。
6) 保持合適的陽極面極,選擇適當的陽極袋,操作時避免刮傷和撕破。
滾鎳常見故障及調整方法:
故障現象 |
產生原因 |
調整方法 |
鍍層不光亮 |
A02-165A不足 |
適當補充主光劑 |
基材光亮度較差 |
提高基材表面的光亮度 |
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有機雜質過多 |
用雙氧水、活性炭處理 |
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金屬雜質過多 |
電解或加除雜劑 |
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pH值低 |
適當提高pH值 |
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銅底層鍍層不良 |
檢查鍍銅工序 |
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鍍層產生花斑 |
前處理不當 |
檢查前處理工序 |
鍍層脆性 |
前處理不當 |
檢查前處理工序 |
A02-165C不足 |
適當補加柔軟劑 |
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硼酸含量不足 |
分析調整硼酸含量 |
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A02-165A過量 |
用雙氧水、活性炭處理 |
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鍍層針孔 |
前處理不當 |
檢查前處理工序 |
A02-163A過量 |
用活性炭處理 |
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基材金屬不良 |
檢查基材 |
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有機或無機雜質過多 |
用活性炭或電解處理 |
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A02-165D過量或不足 |
用活性炭處理或補加適當的濕潤劑 |
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電流過大 |
調整電流 |
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硼酸含量不足 |
分析調整硼酸含量 |
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pH值過高 |
適當降低pH值 |
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溫度過高 |
調整鍍液溫度 |
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鍍層變朦 |
溫度過高 |
調整鍍液溫度 |
A02-165A不足 |
適當補加主光劑 |
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pH值過高或過低 |
調整至標準範圍 |
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A02-165D不足 |
適當補加濕潤劑 |
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毛刺 |
鍍液渾濁 |
過濾 |
陽極泥渣過多,陽極袋破損 |
檢查陽極袋,過濾 |
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有其它懸浮雜質 |
過濾 |
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鍍層有橘皮、皺皮狀光亮 |
A02-165A過多 |
用雙氧水、活性炭處理 |
活性炭未過濾 |
過濾鍍液 |
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pH值過高 |
調整pH值 |
|
鍍層低電流密度區呈灰黑色 |
有銅雜質 |
使用除雜劑或低電流電解處理 |
A02-165A過多 |
用雙氧水、活性炭處理 |
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鍍層低電流密度區呈黑色條紋狀沉積 |
有鋅雜質 |
使用除雜劑或低電流電解處理 |
低電流密度區漏鍍 |
A02-165A過多 |
用雙氧水、活性炭處理 |
有六價鉻雜質 |
用亞硫酸氫鈉或硫酸亞鐵把Cr6+還原成Cr3 +,然後電解去除。或調整pH至5.8~6.0,在60℃下攪拌,過濾除去。 |
3.常見雜質的影響及消除方法
雜質 |
影響 |
消除方法 |
銅 |
導致鍍層附着力不良,低電流密區鍍層呈灰黑色 |
電解處理,或加除雜劑 |
鋅 |
鍍層發脆、發暗,低電流密度區呈黑色條紋狀沉積 |
電解處理,或加除雜劑 |
鉛 |
灰色或黑色粗糙鍍層且影響附着 |
電解處理,或加除雜劑 |
鎘 |
低電流密度區鍍層發暗、發脆 |
電解處理,或加除雜劑 |
鐵 |
鎳層發脆,並出現針孔、粗糙及斑痕 |
用雙氧水把Fe2+氧化成Fe3+,調整pH至5.2~5.5,使其生成氫氧化鐵沉澱,然後濾去,或電解處理 |
六價鉻 |
電流效率降低,鍍層出現條紋、斑痕、長疱、剝落,甚至低電流密度區漏鍍 |
用亞硫酸氫鈉或硫酸亞鐵把Cr6+還原成Cr3 +,然後電解去除。或調整pH至5.8~6.0,在60℃下攪拌,過濾除去。 |
鋁 |
電流效率降低,鍍層粗糙,低電流區出現白色粉末,高電流區鍍層剝落 |
調整pH至5左右,過濾除去 |
二價錫 |
低電流密度區發黑 |
用雙氧水氧化成四價錫,過濾除去 |
硝酸根 |
電流效率下降,鍍層灰黑,發脆,低電流密度區無鍍層 |
在低pH值(1 – 2)下用大電流(>1A/dm2)電解,在陰極上還原成氨除去 |
磷酸根 |
降低極限電流密度,鍍層粗糙 |
調整pH至5.2~5.5,生成磷酸鎳沉澱,過濾除去。 |
硅酸鹽 |
使鍍層形成細針孔 |
濾液加入活性炭,攪拌靜置過濾 |
注意事項:
1、使用前要徹底清除基材表面的油污、灰塵和鏽蝕。
2、若不慎濺入眼睛,即用清水或生理鹽水沖淨;禁止食用。
包裝及貯藏:
25kg/桶的包裝。密封存放,若存放二年後試塗,若漆膜質量合格,仍可使用。
聲明:此技術資料內所有關於本公司產品的各項建議和數據,是以本公司依賴的實驗及資料為標準,各從業員如違反操作或變數據后,所造成不良後果,本公司不負任何責任,以上各項建議和數據也不能作為侵犯版權的証據。
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最後上線︰ | 2015/06/24 |