銀漿濕膜厚度測試儀

銀漿濕膜厚度測試儀
型號:HM3-50
品牌:REAL
原產地:德國
類別:電子、電力 / 儀器、儀表 / 機械量儀表
標籤︰銀漿濕膜測厚儀 , 濕膜測厚儀 , 膜厚測試儀
單價: -
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產品描述

深圳市和興盛光電有限公司
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REAL非接觸表面輪廓測量儀 HM3-50是一款專門針對需要非接觸獲取表面高度或輪廓曲線的儀器, 採用創新的光譜共聚焦原理, 通過探頭掃描的方式獲取輪廓,並通過配套設計的軟件進行截面分析和測量,記錄測量數據,並帶有控製圖表和CPK等SPC統計功能,並能導出測量數據為Excel兼容格式。
光譜共聚焦原理:是一束多波長混合光束,聚焦到一個點上,由於各種波長光線折射率不同,聚焦的位置也不同。聚焦在物體反射表面上的波長的光線,經過聚焦后通過一個微孔到達光譜分析儀器,其它波長的光線由於沒有聚焦在物體表面,反射的光線只有極少能通過微孔,因此測量光線主波長就可以對應地得到該物體表面的高度。
該測量方法的優點是,對物體表面光學特征不敏感,可以測量各種顏色,各種反射度,各種透射率,包括透明材料和鏡面反射材料。而且由於光線從四面八方照射到樣品,對表面突變的邊緣不易產生影響測量的陰影效應。由於光譜分析儀器的分辨率可以達到納米級別,且對外界干擾光不敏感,所以測量精度高且穩定性好。
掃描臂和測量平台可分體的模塊化設計,使得要測量很大的樣品只需把掃描臂固定到更大的平臺上,具有更好的靈活性和可擴展性。

掃描臂主體框架採用穩定精密的單塊花崗石架構,提高穩定性,減少機架採用不同材料產生的熱膨脹變形。設計時充分考慮到發熱部件的安裝位置和散熱,減少發熱部件對架構的熱變形影響。
掃描軸使用光柵尺閉環位置反饋控制,沒有絲杆驅動產生的發熱膨脹以及磨損和間隙,運動精度穩定可靠。
亞微米級別的測量對震動非常敏感。測量平台可以配套安裝氣浮隔振器,利用帶阻尼機構的空氣懸挂吸收和隔離大部分外界震動,可以減少樣品移位和讀數跳動,提高精度。平台自帶水平儀,方便用戶隨時監控平台是否放置水平,提高測量可靠性。
採用測量探頭運動樣品不運動的設計,可以避免樣品產生震動和搖晃,並避免了樣品運動和空氣碰撞產生的氣流影響,可以大幅度提高測量精度,對於未固化的漿料、膠水、油墨濕膜以及薄或柔軟的、底部不平整度大於測量分辨率的基材來說,這一特點非常重要。


應用範圍:漫反射/透明/鏡面,固態液態均可(膠水、銀漿、油墨等)
可測濕膜厚度:2~350μm
可測最小寬度:10μm
高度測量分辨率: 0.022μm(=22nm=0.000022mm)
重複精度: <0.1um于標準量塊上)
XY平臺大小:500X760mm(最大可定製)
Z軸可調整範圍: 35mm 
允許被測物高度:80mm
最大掃描距離: 50mm
最大掃描速度:27mm/s
掃描軸最小步距:1μm
掃描軸直線度:0.1μm(0.000375%FS,校準后)
最高采樣頻率: 900樣品/S (測量頭靜態可達2000樣品/S)
運動系統:磁懸浮,超精密導軌
控制系統:光柵全閉環控制
基準平面修正:兩點參照修正傾斜
數據傳輸:USB數字、光纖傳輸
測量模式:手動定位和調焦,自動掃描
測量速度:每次測量約5~10秒(短距離掃描,不包括被測物擺放時間)
測量結果:長、寬、平均厚度、最高厚度、目標邊線厚度等,主要數據可導出至Excel
SPC統計功能:平均值、最大值、最小值、極差、標準差、CP/K/CPK等。Xbar-R均值極差控製圖(帶超標警告區),直方圖、規格參數可自主設置。
測量侷限性:光照射不到或無法反射足夠光線到探頭的地方無法測量。
本身發光或熒光物質需確認。(凹球面反射鏡和透鏡等光學部件或類似的表面 需要確認光路合理性)
必須配置:測量探頭;探頭控制器;掃描臂;掃描臂控制器;
測量軟件 
可選配置:測量平台;阻尼隔振器;平面誤差小於0.1um標準表面;
電腦和操作系統 
平台尺寸:600x800(更大可定製)
使用環境要求:遠離震動和強光,無塵,恆溫建議放在基礎層樓層穩固的桌子(20攝氏度 正負1度,至少10萬級潔淨度,照度低於100LUX,濕度<60%RH且較穩定)
壓縮空氣/氮氣/純淨水:無需 
電源電壓: 220V正負10%,交流50Hz

 

銀漿濕膜厚度測試儀 1

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最後上線︰2015/11/20