HMDS預處理真空烘箱

HMDS預處理真空烘箱
型號:PVD-090-HMDS
品牌:TATUNG
原產地:中國
類別:電子、電力 / 儀器、儀表 / 實驗儀器裝置
標籤︰HMDS真空烘箱 , HMDS真空箱 , HMDS真空乾燥箱
單價: ¥130000 / 台
最少訂量:1 台
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產品描述

HMDS預處理真空烘箱
一、HMDS 預處理系統的必要性:
在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,塗膠質量直接影響到光刻的質量,塗膠工藝顯得更為重要。光刻塗膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS塗到硅片表面后,經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起着偶聯劑的作用。
二、產品特點:
 1)設備外殼採用醫用級不鏽鋼316L不鏽鋼材質製作,內膽為不鏽鋼316L材料製成;採用C型不鏽鋼加熱管,均勻分布在內膽外壁,內膽內無任何電氣配件及易燃易爆裝置;採用鋼化、防彈雙層玻璃觀察窗,便於觀察工作室內物品實驗情況。
2)箱門閉合鬆緊能調節,整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內保持高真空度。
3) 採用微電腦PID控制,系統具有自動控溫,定時,超溫報警等,採用LCD液晶顯示,觸摸式按鈕,簡單易用,性能穩定.
4)智能化觸摸屏控制系統配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據不同製程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時間。
5)HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計,使真空箱密封性能極好,確保HMDS氣體無外漏顧慮。
6)整個系統採用優質醫用級316L不鏽鋼材料製作,無發塵材料,適用百級光刻間淨化環境。
三、產品型號及參數:
型號:PVD-090-HMDS
容積:90L
控溫範圍:R.T.+10~250℃
溫度分辨率:0.1℃
控溫精度:±0.5℃
隔板數量:2PCS
真空度:<133Pa
真空泵:DM4
電源:AC220/50HZ
額定功率:3.0KW
內膽尺寸mm:寬450*深450*高450
外形尺寸mm:寬650*深640*高910
木箱包裝mm:寬840*深750*高1100
連接管:316不鏽鋼波紋管,將真空泵與真空箱完全密封無縫連接
四、PVD-090-HMDS系列預處理系統的原理:
 PVD-090-HMDS預處理系統通過對烘箱HMDS預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻塗布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

五、PVD-090-HMDS系列預處理系統的一般工作流程:
首先確定烘箱工作溫度。典型的預處理程序為:打開真空泵抽真空,待腔內真空度達到某一高真空度后,開始充入氮氣,充到某低真空度后,再次進行抽真空、充入氮氣的過程,到達設定的充入氮氣次數后,開始保持一段時間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分。然後再次開始抽真空,充入HMDS氣體,在到達設定時間后,停止充入HMDS藥液,進入保持階段,使硅片充分與HMDS反應。當達到設定的保持時間后,再次開始抽真空。充入氮氣,完成整個作業過程。HMDS與硅片反應機理如圖:首先加熱到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然後HMDS與表面的OH一反應,在硅片表面生成硅醚,消除氫鍵作,從而使極性表面變成非極性表面。整個反應持續到空間位阻(三甲基硅烷基較大)阻止其進一步反應。
六、尾氣排放:
多餘的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,排放到專用廢氣收集管道。在無專用廢氣收集管道時需做專門處理。
七、產品操作控制系統平台配置:
1.採用DM4直聯旋片式真空泵
2.採用AISET溫控器控制溫度,日本三菱可編程觸摸屏操作模塊.
3.固態繼電器

以下三款型號HMDS真空烘箱參數
PVD-020-HMDS真空乾燥箱技術參數:
電源電壓:AC220V/50Hz
輸入功率:1500W
控溫範圍:室溫+10℃-250℃
溫度分辨率:0.1℃
溫度波動度:±0.5℃
真空度極限:<133Pa
容積:20L
內室尺寸(mm):300*300*275
外形尺寸(mm):465*465*725
載物托架:1塊
時間單位:分鐘

PVD-090-HMDS真空乾燥箱技術參數:
電源電壓:AC220V/50Hz
輸入功率:3000W
控溫範圍:室溫+10℃-250℃
溫度分辨率:0.1℃
溫度波動度:±0.5℃
真空度極限:<133Pa
容積:90L
內室尺寸(mm):450*450*450
外形尺寸(mm):650*640*910
載物托架:2塊
時間單位:分鐘

PVD-210-HMDS真空乾燥箱技術參數:
電源電壓:AC380V/50Hz
輸入功率:4000W
控溫範圍:室溫+10℃-250℃
溫度分辨率:0.1℃
溫度波動度:±0.5℃
真空度極限:<133Pa
容積:210L
內室尺寸(mm):560*640*600
外形尺寸(mm):720*820*1050
載物托架:3塊
時間單位:分鐘

 

HMDS預處理真空烘箱 1HMDS預處理真空烘箱 2

會員信息

上海實貝儀器設備廠
國家/地區︰上海市奉贤区
經營性質︰生產商
聯繫電話︰18918265843
聯繫人︰任俊萍 (經理)
最後上線︰2016/07/21