PI 膜石墨化爐是我廠工程技術人員消化和吸收國外最先進的測溫、控溫技術、智能化、新材料技術和爐膛設計技術，推出的一項特別碳素材料行業（工藝允許也可適用於其他行業）的高性能智能化電爐。
●用途：    
應用碳素材料的燒結，PI 膜石墨化，導熱材料石墨化、碳纖維繩的燒結，碳纖維燈絲的燒結石墨化及其它可在碳環境下燒結和熔煉的材料。
 ●特點：
3000℃以內超高溫爐體，可完全滿足各種材料的燒結和石墨化。
採用數顯化智能控溫系統，全自動高精度完成測溫控溫過程，系統可按給定升溫曲線升溫，並可貯存二十條共400段不同的工藝加熱曲線。
採用內循環純水冷卻系統；數字式流量監控系統，爐體轉換採用高性能中頻接觸器；全面的PLC水、電、氣自動控制和保護系統。
●主要技術參數：
最高使用溫度：3000℃
高溫區容積：0.01m3、0.02m3、0.03m3、0.05m3、 0.1m3、 0.15m3、0.2m3 、0.3m3 、0.5m3、0.8m3
爐內工作氣氛：真空、氫氣、氮氣、惰性氣體等
溫度均勻度：≤±10℃
溫度測量：遠紅外線光學測溫
測溫範圍1000~3000℃或600~3100℃
測溫精度：0.2~0.75%
溫度控制：程序控制和手動控制； 控溫精度：±1℃
極限升溫速度：50℃/分鐘（空爐，視高溫區容積和爐膛結構而定.