在集成電路、半導體和電真空器件製造中用作保護氣和運載氣，化學氣相澱積時的載氣，液體擴散源的攜帶氣，在高溫擴散爐中用作器件的保護氣。高純氮在外延、光刻、清洗和蒸發等工序中，作為置換、乾燥、貯存和輸送用氣體。顯像管製造中要求氮氣純度為99.99%以上。在航天技術中，液氫加註系統必須先用高純氮置換，再用高純氦置換。