真空電鍍是一種物理沉積現象。即在超低壓容器中，利用電場的遷移作用對被鍍件塗覆金屬、金屬化合物、或非金屬塗層的一種工藝。

 特點：                       
(1)鍍層均勻、緻密、附着性好、硬度高、磨擦係數低；

(2)符合歐盟ROHS標準、環保；

(3)突出優點：表面不沾污垢，手指印等輕輕一擦就掉；

(4)性能穩定：48小時鹽霧試驗、耐磨試驗、人工汗測試，全部合格；

(5)貨期短。