PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。PVD納米塗層通常稱謂：鍍鈦,真空鍍鈦，鍍鉻，鍍鈦加工，PVD鍍鈦，納米鍍鈦，納米塗層，真空鍍鈦加工，真空塗層，表面處理等.

真空鍍鈦塗層特點：增壽、增硬、增值,並以其硬高度、高耐磨、強抗腐蝕性、抗高溫、抗黏着性等使用性能廣氾應用於模具工業中。

多元復合塗層種類：氮化鈦(TiN),氮化鉻(CrN)氮鋁鈦(TiAlN),高鋁鈦(AlTiN)氮碳化鈦(TiCN),氮碳化鉻(CrCN)，氮化鈦硅（TiSiN）氮化鈦鋁硅（TiAlSiN），氮化鈦鋁鉻(TiAlCrN)等各種超硬膜層，其塗層厚度可達到0.5～5um，故而您不用擔心會給尺寸帶來麻煩，並以新工藝使產品具有良好的潤滑、散熱（干式），使工件壽命可增加10～50倍，可提高600％工作效力，從而降低生產成本。