電子元器件清洗超純水設備

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電子元器件包括半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對清洗用水質的要求也越高。我國電子工業部把電子級水質技術要求分為五個行業等級，為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，用來滿足電子元器件行業用水要求。

電子元器件用超純水處理設備在20世紀90年代開始逐漸發展發展起來，也是純水生產技術的一次革命式的跨越，應用到的領域也很多。

電子元器件清洗用超純水處理設備工藝詳情：

1、鹽處理(EDI)：主要去除水中的各種無機鹽離子。出水符合國家純淨水標準GB-17324-98，超純水電阻率：10-18MΩ·CM。

2、石英砂過濾：濾除原水中細小顆粒、懸浮物、膠體等雜質。

3、活性炭過濾：除去水中游離氯和有機物以保護反滲透設施。

4、阻垢劑加藥：防止反滲透膜受難溶鹽結垢的污染。

5、精密過濾：截留原水中的大於5微米的顆粒，以保証反滲透膜不被大顆粒的懸浮物划傷。

6、高壓泵：為反滲透膜提供足夠的進水壓力，以保証反滲透正常產水量。

7、反滲透裝置：主要去除水中的各種無機鹽離子。