美國PIE公司出品的SEMI-KLEEN 等離子清洗儀, 可清洗各種類型電子或者離子顯微鏡，深紫外光刻機，電子光刻系統等真空儀器。一個儀器同時清洗真空腔體和樣品。

本儀器由一個LCD觸摸屏控制器和一個遠程射頻（RF）等離子源組成，遠程等離子源通過一個KF40真空法蘭連接到待清洗真空室，有轉接法蘭提供。主要用於清洗各種掃描電鏡(SEM)，透射電鏡(TEM)，聚焦離子系統(FIB)，離子顯微鏡(HIM)等真空系統中碳氫及其他污染。同時清洗真空腔體和樣品。

特有功能

 優越的等離子技術，可以在小於0.1毫托的氣壓下點火併且保持穩定的等離子體。最低工作氣壓比其他同類產品低10到100倍。低氣壓清洗速度更快，更均勻，對電子槍和分子泵更安全；
 即時等離子起輝技術。不用像在其他同類產品上那樣擔心等離子是不是成功起輝；
 帶氣壓計的自動氣體流量控制；
 等離子探針實時測量等離子強度，用戶可以根據這個實時反饋來優化清洗配方；
 自動射頻匹配實時保証最優化射頻耦合，即使用戶調節清洗配方；
 專利保護的雙層顆粒過濾器設計保証我們的產品滿足Intel，台積電，三星等半導體用戶的嚴格顆粒污染要求；
 帶LCD觸摸屏的直觀操作界面；
 微電腦控制器帶可修改的智能清洗計劃，設好就自動清洗您的系統；
 支持清洗配方，一鍵開始，自動射頻匹配，自動控制氣體流量；
 微電腦控制器記錄所有信息狀態，便於系統維護。

技術指標

 等離子源真空接口: NW/KF40 法蘭; 提供轉接法蘭；
 標配等離子強度傳感器；
 等離子源最低點火起輝氣壓：<0.1毫托；
 等離子源最高工作氣壓: >1.0 托；
 漏氣率: <0.005sccm；
 射頻輸出: 0~100瓦，連續可調節；
 具有射頻自動匹配功能