設備特點：

1、廣氾用於真空或氣氛燒結、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環境；

2、該設備技術成熟、質量可靠，溫場均勻，結構合理；

3、可選用液晶屏觸摸界面，詳細的界面操作提示，使得設備的操作異常簡單、方便；

4、設備的各項技術參數，溫度曲線更是一目瞭然，使得整個實驗的運行狀態盡在您的掌控之中；

5、根據管徑不同，法蘭分為卡箍和折頁兩種密封方式，安裝拆卸簡便快捷。

該設備廣氾應用在半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、新工藝領域

技術參數：

1、額定功率：5.2KW

2、額定電壓：AC 220V, 50/60Hz

3、最高溫度：1700℃（1 hour）

4、持續工作溫度：≤1650℃

5、推薦升溫速率：1400℃以下≤10℃/min

              1400℃~1600℃≤5℃/min

6、爐管尺寸：高純剛玉管Φ60*1000mm（純度＞99%）

7、加熱區長度：300mm

8、恆溫區長度：150mm

9、控溫方式：模糊PID控制和自整定調節，智能30段可編程控制，具有超溫和斷偶報警功能

10、控溫精度：±1℃

11、加熱元件:硅鉬棒

12、熱電偶類型：B型

13、標準配置 剛玉管1根，氧化鋁管堵4只，B型熱電偶1只，不鏽鋼密封法蘭1套，硅膠密封圈2套，高溫手套1副，坩堝鉤1支

14、爐子尺寸：610*440*720mm

15、淨重：130KG