創想VL-5000金屬檢測直讀光譜分析儀

VL-5000光譜儀可應用於固體金屬樣品的元素定量分析及牌號鑑定。光學系統採用CCD/CMOS檢測器，光譜範圍覆蓋全部典型材料。儀器裝備有開放式氬氣沖洗火花台設計，適合不同形狀和尺寸的樣品分析。

光學系統

VL-5000直讀光譜儀憑借其高性能及可靠設計，以及創新光學系統，可確保對重要元素的精確鑑定和痕量分析，儀器擁有極低的檢出限及優異的長期穩定性;分析結果準確，重現性好。創想儀器運用檢測器與數字讀出技術相結合，使儀器整體設計優于傳統的電倍增管技術，已逐漸成為金屬製造業，加工業及鑄造業的重要選擇。

VL-5000直讀光譜儀採用的光學系統設計，其中結合了帶優化像素的固態檢測器技術，好的光柵分光技術，代表了數碼時代的直讀光譜技術。

分光系統

分光系統由於採用多塊線陣CCD/CMOS作為檢測器，實現分析波段內的全譜接收，各個元素分別採用多條譜線分析，綜合輸出，動態範圍大，結果準確。放置的探測器滿足分析波段內的所有譜線接收無一遺漏，實現同一元素多條譜線同時測定，自動選擇輸出。

激發系統

VL-5000光譜儀在每次激發時，光學系統自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，除繁瑣的波峰掃描工作。全譜技術自動描跡調整光路，激發樣品時，儀器自動識別每塊CCD/CMOS上的特定譜線，與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的像素位置進行測定。消除因溫度、氣壓、震動等變化而產生的光譜漂移;而傳統使用光電倍增管技術的光譜必須進行手動進精細調節，技術要求很高。全譜技術自動快速尋址，避免了費事費力的手動操作，也避免了人為誤差。

基體

VL-5000光譜儀採用全譜直讀技術，儀器可以非常方便增加譜線，增加基體，在不添加硬件設施的情況下，即可實現多基體分析。客戶可以在使用過程中根據實際需要在儀器上增加分析的基體及元素種類，這些工作可以在用戶現場方便完成。相比同類採用PMT技術的光譜儀，則需要大範圍改動硬件，同時由於初始儀器的配置限制，可能無法添加客戶要求的基體或元素。

火花台設計

VL-5000光譜儀的火花台進行了全新的設計，除保留了傳統火花台的優勢外，針對新的應用需求作了相應的優化。火花台採取了密封式設計，整個火花台的結構堅固，在儀器持續使用高溫火花激發的情況下保持火花台結構的穩定。

氬氣系統設計

VL-5000光譜儀的火花台通過結構設計上的變化改進了氬氣流的噴射方向，大大減少了火花激發殘留物在火花臺上的殘留，同時使火花台的清潔和維護也變得更為簡單。VL-5000光譜儀保留了開放式樣品台的設計，使樣品的放置及分析更加簡便，樣品處理也比傳統光譜更加簡單。除電極間隙外，無特別調整要求。

VL-5000光譜儀採用了獨特的噴射電極技術(JET STREAM)。在激發狀態下，電極週圍會形成氬氣噴射氣流。這種技術會帶來以下優勢，激發點週圍的氬氣流保証了激發過程不受外界干擾節省了氬氣的使用，降低了客戶的使用成本。樣品台無須密封，線材等小樣品也可以非常方便的借助適配器進行分析。抽拉式前罩，使激發台的清理維護更加方便。

入射光路設計

VL-5000光譜儀的入射光路設計十分簡潔。通過將入射光路與光室系統直接連接，兩道透鏡入射窗口確保灰塵與防護獨立分開，維護清洗變得非常方便，客戶可以在日常工作中自行進行操作。

電路系統

VL-5000光譜儀的電路系統進行了全新的設計。VL-5000光譜儀採用了同步實時數字讀出技術，與傳統的順序讀出技術相比，分析時間和數據的穩定性都會大大提高。VL-5000光譜儀採用了全數字等離子火花光源技術。所有的激發參數可通過用戶界面由用戶根據實際需求自定義進行設置。

VL-5000光譜儀將電路系統與光學系統進行了完全的分離，將電路系統統一置於儀器光室的外部分，這樣的設計使儀器的散熱功能大大提升，同時使儀器的後續維護也十分便捷。

VL-5000光譜儀的操作軟件十分簡單易學，全中文或英文菜單。沒有任何光譜儀器知識背景的操作人員只需簡單培訓，就可進行儀器的使用。同時儀器的設計處處體現了以人為本的設計理念，使儀器的使用和維護處處體現人性化的關懷。