“高壓真空斷路器”因其滅弧介質和滅弧后觸頭間隙的絕緣介質都是高真空而得名；
真空斷路器其具有體積小、重量輕、適用於頻繁操作、滅弧不用檢修的優點，
在配電網中應用較為普及。發展簡史 1893年，美國的里頓豪斯提出了結構簡單的真空滅弧室，
並獲得了設計專利。1920年瑞典佛加公司第一次製成了真空開關。
1926年美國索倫森等公佈的研究成果也顯示了在真空中分斷電流的可能性，
但因分斷能力小，又受到真空技術和真空材料發展水平的限制，尚不能投入實際使用。
隨着真空技術的發展，50年代美國才製成第一批適用於切斷電容器組等特殊要求的真空開關,
分斷電流尚停在4千安的水平。由於真空材料冶煉技術上的進步和真空開關觸頭結構研究上所取得的突破，
1961年，美國通用電氣公司開始生產15千伏、分斷電流為12.5千安的真空斷路器。
1966年試製成15千伏、26千安和31.5千安的真空斷路器，從而使真空斷路器進入了高電壓、大容量的電力系統。
80年代中期，真空斷路器的分斷能力已達100千安。 中國從1958年開始研製真空開關，
1960年西安交通大學和西安開關整流器廠共同研製成第一批6.7千伏、
分斷能力為600安的真空開關;隨後又製成10千伏、
分斷能力為 1.5千安的三相真空開關。
1969年華光電子管廠和西安高壓電器研究所製成了 10千伏、2千安單相快速真空開關。
70年代以後，中國已能獨立研製和生產各種規格的真空開關。