Aluminum Oxide（Al2O3），即氧化鋁靶材

高純度氧化鋁Al2O3靶材，應用在磁控濺射鍍膜等工藝中，我司提供各類氧化物靶材和背板綁定Bonding服務。Aluminum Oxide（Al2O3），即氧化鋁靶材，作為一種高性能的高純濺射靶材材料，在薄膜制備領域展現出了其獨特的物理特性和廣氾的應用優勢。我司專注研發與生產，鑄就行業精品。所生產氧化物靶材 材料如下：

氧化物(Al2O3)靶材特性：

1、首先，從純度方面來看，氧化鋁靶材的純度通常達到99.99%以上，甚至可達99.999%的極高純度。這種高純度確保了靶材在濺射過程中能夠提供穩定且純淨的濺射源，從而制備出質量卓越的薄膜。高純度還減少了雜質對薄膜性能的影響，如電學性能、光學性能及化學穩定性等，使得氧化鋁薄膜在多個領域中的應用更加可靠和高效。

2、在密度方面，氧化鋁靶材的密度約為3.97~4.0g/cm³（真密度），這為其在濺射過程中提供了良好的穩定性。高密度使得靶材在濺射時能夠保持均勻的濺射速率和薄膜厚度，從而提高了薄膜的均勻性和一致性。此外，高密度還賦予了氧化鋁薄膜優異的機械性能和耐磨性，使其在需要高硬度、高耐磨性的應用中表現出色。

3、熔點方面，氧化鋁的熔點高達2054°C，這一特性使得氧化鋁靶材能夠在高溫環境下保持穩定，不易熔化或變形。這種高溫穩定性對於需要高溫濺射或沉積工藝的應用場景至關重要，如化學氣相沉積（CVD）等高溫工藝中。同時，高熔點也確保了氧化鋁薄膜在高溫環境下的穩定性和耐久性，使得其在航空航天、能源存儲等極端環境中的應用更加可靠。

三、行業應用：

氧化鋁靶材展現出了廣氾的應用優勢。在半導體領域，氧化鋁薄膜作為介電層、鈍化層或絕緣層，能夠顯著提高器件的性能和可靠性。其優異的絕緣性能和穩定的化學性質，使得氧化鋁薄膜成為製造高性能電容器、晶體管等微電子器件的理想材料。此外，在光學領域，氧化鋁薄膜被廣氾應用於抗反射塗層、高反射塗層和透明導電膜等光學元件的制備中，提高了產品的光學性能和美觀度。在裝飾保護領域，氧化鋁薄膜因其良好的耐磨性和化學穩定性，被用作傢具、建築材料等表面的裝飾和保護塗層，延長了產品的使用壽命。

綜上所述，Aluminum Oxide（Al₂O₃）氧化鋁靶材以其高純度、高密度和高熔點等優異特性，在半導體、光學、裝飾保護等多個領域中展現出了廣氾的應用優勢和巨大的市場潛力。隨着技術的不斷進步和應用領域的不斷拓展，氧化鋁靶材必將在更多領域中發揮重要作用。

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鋁濺射靶材（Al）Aluminium 

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鋁（Al）的基本屬性

鋁是世界上最常見的金屬之一。它可以在廚房用具，汽車，路燈和流行的鋁箔食品包裝中找到。鋁是銀白色的金屬材料。在正常情況下，它是輕質的，可延展的，可延展的且無磁性的。它的密度為2.7 g / cc，熔點為660°C，蒸氣壓為10 -4在1,010°C時托。儘管它不是一種堅固的材料，但它還是熱和電的良導體，並且能夠形成耐腐蝕的氧化層。由於其高反應性，它在自然界中很少作為游離元素被髮現。在真空中蒸發時，鋁層會在望遠鏡，汽車前照燈，鏡子，包裝和玩具上形成反射塗層。它廣氾用於航空航天，汽車照明，OLED和光學行業。

鋁（Al）規格

鋁（Al）及其他合金形式

鋁合金按化學成分可分為鋁硅合金AlSi，鋁銅合金AlCu，鋁鎂合金AlMg，鋁鋅合金AlZn和鋁稀土合金，其中鋁硅合金又有簡單鋁硅合金（不能熱處理強化，力學性能較低，鑄造性能好），特殊鋁硅合金（可熱處理強化，力學性能較高，鑄造性能良好）。

其他濺射靶材及蒸發顆粒有鋁銅合金，硅鋁合金，鋁硅銅合金，鈦鋁合金等。