紫外正型厚膜光刻膠

紫外正型厚膜光刻膠
型號：GP-28
品牌：光譜
原產地：中國
類別：電子、電力 / 其它電力、電子
標籤︰紫外 , 正型 , 厚膜光刻膠
單價： -
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產品描述

本品主要用於MEMS微機械、微光學器件和大功率晶閘管、可控硅等半導體器件的製作，具有高感度，工藝寬容度大，抗刻蝕性好等顯著特點，尤其適合強曝光、速顯影工藝。

                                                          超高感度
                                                        高抗刻蝕性能
                                                        工藝寬容度大  
                                                         耐熱性好

品種規格　
 
GP-28 溶劑PGMEA
（丙二醇甲醚醋酸酯）		 100~ 450mPa.S
 

推薦工藝　
 

勻膠(Coating)：旋轉塗布(spin) t=23℃, 濕度(humidity):<50%

前烘(Prebake)：90℃×30min,對流烘箱

曝光(Exposure)：90~200mJ/cm2
顯影(Developing)：2.38%TMAH 23℃×60~150sec,
后烘(Postbake)：120℃×20min, 對流烘箱
紫外正型厚膜光刻膠 1

會員信息

成都光譜光電技術有限公司
國家/地區︰四川省成都市
經營性質︰生產商
聯繫電話︰13330963457
聯繫人︰徐文曦 (經理)
最後上線︰2012/02/24

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