用途：

該X射線晶體分析儀，主要用於研究物質內部微觀結構。如：單晶定向、檢驗缺陷、物質定性、測定點陣參數、測定殘餘應力等。

主要參數：

電  源：AC220V  50HZ  30A

功  率：2KW

靶  材：Cu（可選其他靶材）

管電壓：50KV（分檔可調）

管電流：50mA（分檔可調）

穩定度：±1%

保  護：過功率、過電壓、過電流、無水

冷  卻：循環水、制冷水箱

防  護：鉛有機玻璃防護罩

相  機：

a)德拜相機（粉沫相機）大、小兩種

b)勞厄相機（平板相機）

上述兩種相機，用戶可自選配置