全球專業的沉積設備製造商，為各個領域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案：電子束蒸發系統、熱蒸發系統、超高真空蒸發系統、分子束外延MBE、OLED沉積系統、有機分子束沉積OMBD、等離子增強化學氣相澱積系統PECVD/ICP Etcher、電子迴旋共振等離子體增強化學氣相沉積、離子泵等；

系統配置：

1.蒸鍍源Cell&電源：
•有機金屬沉積蒸鍍Cell 
    --最大溫度: 500℃ 
    --坩堝容積和材料: 2~200 cc and Quartz, Graphite,etc 
    --包含Shutter and Cooling shroud (選件) 
    --電源:15A, 20V 
    --溫度控制: PID control 
•金屬沉積蒸鍍Cell 
    --最大溫度: 1,400℃(up to 1,800 ℃) 
    --坩堝容積和材料: 2~120 cc and Al2O3, BN, PBN, etc
    •包括shutter和Cooling shroud
    •電源: 30A, 80V
    •溫度控制：ntrol : PID control

2.薄膜沉積控制：
•Cygnus and PC控制
    --控制沉積參數 
        ----多達6源同時沉積 
    --石英晶體振盪器 
        ----一個, 兩個或六個
•膜厚測量 
    --石英晶體振盪器
        ----一個, 兩個或六個

3.真空室：
•圓柱形腔體
    --直徑: φ300 ~ 1,000 mm (Substrate : 1 inch to 370 ×400 mm) 
    -- 高度: 300 ~ 700 mm
•方形腔體 
    --根據客戶需求定製

4.真空泵和測量裝置：
•低真空: 干泵和convectron真空規
•高真空: 渦輪分子泵，低溫泵和離子規
•超高真空: 離子泵和離子規

5.控制系統：PLC, PC with Touch Screen

擴展功能：
•溫度控制器：基底加熱
•He cooling 裝置：基底冷卻
•LN2or CW 冷卻系統
•傳遞單元：樣品傳遞在有機和金屬處理時
•帶自動樣品遞送裝置的Loadlock樣品加載系統