生產型設備次大氣輝光放電處理機（HPD-2400）
     次大氣壓下輝光放電的視覺特征呈現均勻的霧狀放電，放電的電流電學特征為單脈衝，放電溫度為室溫。次大氣壓輝光放電可以處理各種高分子材料、生物材料、金屬材料、紡織品材料、異型材料。設備成本低、處理的時間短、可加入各種氣氛，氣氛含量高、功率密度大、處理效率高。可應用於表面聚合、表面接枝、金屬滲氮、冶金、表面催化、化學合成及各種粉、粒、片材料的表面改性和的表面處理。電子和離子的能量可達10eV以上。材料批處理的效率要高于低氣壓輝光放電10倍以上。
主要應用於表面清洗、改善復合材料粘附性、細胞培養皿,組織培養皿的親水、心臟冠狀動脈支架、生物傳感器的表面處理。　
　　規格：
　　1、型號：HPD-2400；
　　2、電源：三相AC380V（±10％）
　　3、功率：1000VA；
　　4、電極尺寸：300mm×450mm；
　　5、設備尺寸：720（W）×1360（H）×765（D）mm
　　6、設備重量：180kg
　　7、腔體壓力：500～3000Pa

用途：

1. 酶標板、細菌計數培養皿、細胞培養皿、組織培養皿的親水處理。經過等離子體處理后細菌培養皿表面由疏水變為親水,並獲得支持細胞黏附鋪展的能力.並適用於細胞培養。等離子表面處理的效果可以簡單地用滴水來驗証，處理過的樣品表面完全被水潤濕。
2. 生物芯片、人造血管、血管支架的處理
3. 等離子清洗、刻蝕、等離子塗覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料的潤濕能力，使多種材料能夠進行塗覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。