京泓公司設計的磁控濺射鍍膜機可採用立式單開門或雙開門鍍膜機，可配置工件小車，裝夾方便快捷，保養維修簡單。蒸發，磁控賤射兩用的設計，廣氾適用於不同的工藝要求，採用先進的磁控靶結構，靶材利用效率高，鍍膜均勻性好。通過更換不同的靶材料：（例如：鈦、銅、鋁、不鏽鋼、）從而滿足不同工件的鍍膜工藝要求，工件架採用公自轉結構，傳動靈活可靠。真空機組配置先進、合理、達到抽速快、效率高的目的。電控系統採用PLC計算機可編過程控制。設備適用於：塑料、玻璃、樹脂、五金，金屬材料的表面鍍制。
　　
　　用於沉積TiN／ TiC／ TiAlN／ TiO／ SiO／ SiO2／ C／ Ti／ Cr／ Al／ Cu／ Ni等。