三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等…
氟化物:氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等…
硫化物:硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…
天源公司自主研發的真空濺射靶材、光學鍍膜材料廣氾應用於裝飾鍍膜、工具鍍膜、光學鍍膜及鍍膜玻璃工業與平板顯視行業。生產的濺射靶材成分設計合理、表面平整光滑,具有良好的導電性,濺射時工作電流穩定,高阻靶材的底板焊接牢固適用,採用該靶材製作的電阻器,具有阻值集中、穩定性好,有良好的耐熱、耐磨和抗氧化性能,電阻溫度係數小等特點。其靶材的制備都是根據其材料特性來加工的:分熱壓燒結工藝法和真空熔鑄工藝法,產品均具有純度高,微觀組織優異及利用率高等特點,靶型有:平面矩形,管形,圓盤形,環形,片狀,粉狀等,規格和成分還可以根據用戶的具體要求來定做。