光清洗技術是利用有機化合物的光敏氧化作用，達到去除黏附在材料表面上的有機物質，經過光清洗后的材料表面可以達到原子清潔度。

適用範圍：1、LCD, PDP, OLED, 半導體硅芯片，集成電路、高精度印製電路板清洗和表面改質。2、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料。3、有機玻璃，PP, PE菲林。詳情請點擊瑞森特公司網站：www.uv58.com

★工作原理是利用紫外光子對有機物質所起的光敏氧化作用以達到清洗粘附在物體表面上的有機化合物（碳氫化合物）的目的。

★在實際應用中，通常是利用一種能產生兩種波長的紫外燈，這種UV燈能夠產生波長為254nm、185nm的紫外光（通常185nm 波長的僅為254nm波長光的20%）。

★根據臭氧（03）產生程度分S型，H型，L型。根據形態分為D型-直管，U型，N型，M型等。

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