1、設備名稱和型號
1.1設備名稱:晶片研磨后清洗機
1.2設備型號:NXXD-4SH-06A
2、設備用途:
用於清洗去除研磨后晶片表面上的金剛砂,AL2O3,SIC,金屬離子(NA+,SI+,K+,AL3+)等。
3、設備能力和清洗硅片尺寸
3.1 晶片尺寸:3″、4″圓片及20×30方片
3.2 處理3″、4″晶片數:50片/2花籃(PFA花籃),一批
3.3處理20×30方片數:100片/4花籃(PFA花籃),一批
3.4 處理頻率:1批10分鐘(標準)
4、設備各部分主要技術參數
4.1整機
² 尺寸(參考):2000mm(L)×1200mm(W)×1800mm(H);
² 主要材料:優質磁白10mmPP板,優質不鏽鋼骨架;
² 台面板為10mm洞洞板;
² DIW管路及構件採用國產優質PP管材,需滿足10--15MW去離子水水質要求;
² 碱管路採用PFA管;
² 附件:1把水槍,1把氣槍;
² 設備頂部裝有照明燈;
4.2純水(DIW)快排槽(1、3、5#)
² 數 量 3套;
² 內槽尺寸 370(長)×280mm(寬)×230mm(高)
² 槽體容量 22升
² 工作溫度 室溫
² 槽體材料 N PP材料熱彎/焊接組合加工而成,配蓋
² 清洗方式 上噴淋,下注水
² 注入時間 0-9999秒,可設置
² 快排參數 0-9999秒,可設置,1-99次
² 排液方式 重力排液,排液時間 < 5秒鐘
4.3 NaOH藥液清洗槽(2、4#)
² 數 量 2套;
² 內槽尺寸 370(長)×280mm(寬)×300mm(高)
² 槽體容量 26升
² 工作溫度 室溫----50℃,可設置,精度±2℃
² 槽體材料 PVDF或SUS316熱彎/焊接組合加工而成
² 超聲系統 功率2KW,頻率40KHz
² 排液方式 重力排液
² 加熱方式 內置式加熱管,配溫度傳感器和液位傳感器。槽內有N2鼓泡功能,使
槽內液體溫度加熱均勻,加熱器功率為2.0KW
4.4 溢流槽(6#)
² 數 量 1套;
² 內槽尺寸 370(長)×280mm(寬)×230mm(高)
² 槽體容量 22升
² 工作溫度 室溫
² 槽體材料 NPP材料熱彎/焊接組合加工而成
² 清洗方式 下注水+氮氣股泡
² 注入時間 0-9999秒,可設置
² 排液方式 重力排液,排液時間 < 5秒鐘
² 槽體設有掏渣口,槽體底部設有NPP材質3--4¢洞洞過濾板,防止碎硅料堵塞管路;
² 配手動透明PVC材質蓋,防止停機時污染;