一種可以同時測量薄膜反射率、折射率、透射率的光學薄膜測厚儀

產品特征：
· 易於安裝
· 基於視窗結構的軟件，很容易操作
· 先進的光學設計，以確保能發揮出最佳的系統性能
· 基於陣列設計的探測器系統，以確保快速測量
· 獨特的光源設計，有着較好的光源強度穩定性
· 最多可測量5層的薄膜厚度和折射率
· 在毫秒的時間內，可以獲得反射率、透射率和吸收光譜等一些參數
· 能夠用於實時或在線的厚度、折射率測量
· 系統配備大量的光學常數數據及數據庫
· 對於每個被測薄膜樣品，用戶可以利用先進的軟件功能選擇使用NK數據庫、也可以進行色散或者復合模型（EMA）測量分析；  
· 可升級至MSP（顯微分光光度計）系統，SRM成像系統，多通道分析系統，大點測量。
· 通過模式和特性結構直接測量。
· 提供的各種配件可用於特殊結構的測量，例如通過曲線表面進行縱長測量。
· 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數據管理界面。

系統配置
型號：SRT100
檢測器：雙通道CCD陣列的每個像素2048
光源：氘燈和高功率鹵素燈
光傳輸：光纖
載物台：黑色鋁合金樣品測量平台輕鬆調整高度，100mmx100mm尺寸
通訊：USB
測量類型：薄膜厚度，反射光譜，透射光譜，折射率
軟件：TFProbe 2.3
電腦需要：常規配置
電源：110 - 240伏交流電/ 50 - 60Hz的，1.5A
保修：1年

產品規格
波長範圍：250nm到1100 nm
光斑尺寸：500μm至5mm
樣品尺寸：100mmx100mm
基板尺寸：最多可至50毫米厚
測量厚度範圍*：5nm-50μm
測量時間：最快2毫秒
精確度：優于0.5％（通過使用相同的光學常數，讓橢偏儀的結果與熱氧化物樣品相比較）
重複性誤差*：小於1A

產品應用:                 
半導體製造（PR，Oxide, Nitride..)
液晶顯示（ITO，PR，Cell gap... ..）
醫學，生物薄膜及材料領域等
油墨，礦物學，顏料，調色劑等
醫藥，中間設備
光學塗層，TiO2, SiO2, Ta2O5... ..
半導體化合物
在MEMS/MOEMS系統上的功能性薄膜
非晶體，納米材料和結晶硅