2010美國紐約影像設備展覽會/photoplus expo2010/咨詢熱021-33197556上海金博展覽

2010 年美國紐約國際影像博覽會

PhotoPlus Expo 2010

展會時間：2010 年10 月28-30日

展會地點：賈維茨會議中心

展品範圍：

相機、鏡頭、過濾器、適配器、三角架、自動機械、遙控相機快門、 閃光燈、測量裝置、 圖像軟件、 攝像箱包、背景及影樓攝影設備、相紙、 相冊（手工和其他）、 攝影學校

展會簡介:

一年一度的PhotoPlus 美國紐約國際展覽會是攝影領域最為重要的活動之一，為專業的攝影攝像人士以及業餘的攝影愛好者提供了一個信息交流和技術展示的平台。該展會專業性強，國際影響力大，是影像器材領域水平最高的盛會之一。有來自各國和地區的250 家參展商將參加到此次展會，並且至少有27000 名潛在的買家觀眾將到會參加洽談。

【其他】我們將提供完善的展覽服務，包含展位預定、機票、酒店住宿等全套行程安排，使您安心無憂。                                                                                                                 

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心動不如行動，主辦機構將按照“先到先得”的攤位分配原則儘快提供展位給貴公司，感謝您的關注，並期待您的儘快回復。有關展覽會的疑問或要求，請隨時與我們聯絡。

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