R-14制冷劑，別名R14、氟利昂14、PFC-14，商品名稱有Freon 14等，中文名稱四氟化碳、四氟甲烷，英文名稱Carbon Tetrafluoride or Tetrafluoromethane，分子式CF4。R-14屬於FC類物質——對臭氧層沒有破坏、但存在溫室效應；目前對於R14制冷劑的生產、銷售以及在新制冷設備上的初裝、售后設備上的再添加均沒有限制。

R-14主要用途

R-14作為一款特種超低溫制冷劑，主要應用於要求溫度非常低的深冷設備中（包括科研製冷、醫用制冷等），R14同時也是超低溫配合冷媒的重要組分。四氟化碳（四氟甲烷）是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純氣及四氟甲烷高純氣配高純氧氣的混合氣，可廣氾應用於硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、氣相絕緣、洩漏檢驗劑、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。

R-14物化性質

CF₄在常溫常壓下是一種無色、無味、易於壓縮的氣體，不溶于水。

CF₄物理性質如下：熔點-183.6℃，沸點-128.1℃，液體密度（-130℃）1.613g/cm³，液體折光率（-173℃）1.515，固體轉變點72.2K，臨界溫度-45.67℃，臨界壓力3.73MPa，臨界密度7.1dm³/mol，標準摩爾生成焓-932.31 kJ/mol，標準摩爾生成熵261.04J/（mol﹒K），標準摩爾自由能-929.84 kJ/mol，標準摩爾生成自由能-887.41 kJ/mol。

四氟化碳（CF₄）是目前微電子工業中用量最大的等離子體刻蝕氣體，廣氾用於硅、二氧化硅、氮化硅、磷烷玻璃及鎢等薄膜材料的刻蝕，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、低溫制冷、氣體絕緣、洩漏檢測劑、控制宇宙火箭姿態、洗刷電路生產、印刷電路生產中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應用。由於化學穩定性極強，CF₄還可以用於金屬冶煉和塑料行業等

R-14冷媒包裝

可重複使用高壓鋼瓶包裝（需回收包裝鋼瓶）：7kg/瓶，32kg/瓶

1. 別名.英文名

四氟甲烷、氟里昂14；Tetrafluoromethane、Carbon Tetraflu-oride．

2.     用途

制冷、氣體絕緣、干蝕刻氣、氟化劑、表面處理劑、激光氣體洩漏檢驗劑。

3.製法

(1)C+2F2→CF4

(2)SiC+2F2→CF4+Si

(3)醋酸溶解于無水氫氟酸中，電解制取。

(4)一氧化碳和氟氣反應。

4.理化性質

物理性質

化學性質